有机硅

CAS号：1873-77-4

品名：三(三甲基硅基)硅烷TRIS(TRIMETHYLSILYL)SILANE

中文别名：三(三甲硅烷基)硅烷;三(三甲硅基)硅烷;1,1,1,3,3,3-五甲基-2-(三甲基甲硅烷基)三硅烷;

英文别名：1,1,1,3,3,3-Hexamethyl-2-(trimethylsilyl)trisilane;1,1,1,3,3-HEXAMETHYL-2-TRIMETHYLSILYL-TRISILANE;Tris(trimethylsilyl)silane;TTMSS;

分子式：C9H28Si4

分子量：248.661

精确质量：248.127

Psa：0.0

BRN号：1923953

EINECS号：000-000-0

MDL号：MFCD00077893

外观与性状：透明无色至淡黄色液体

密度：0.806g/mLat 25°C(lit.)

沸点：73°C5mm Hg(lit.)

闪点：55 °C

折射率：n20/D 1.489(lit.)

储存条件：Flammables area

蒸汽压：0.242mmHg at 25°C

安全说明：S16-S26-S36

危险类别码：R10

WGK Germany：3

海关编码：2931900090

危险品运输编码：UN 1993 3/PG 3

危险类别：3

包装等级：II

危险品标志：Xi

信号词：Warning

危险性防范说明：P305 + P351 + P338

危险标志：GHS02, GHS07

危险性描述：H226; H315; H319; H335

用途：1.Chatgilialoglu和他的同事已经成功的将(TMS)3SiH应用在了烷基卤化物的还原反应中。如图所示:反应机理分两部分:在第一部分反应中,(TMS)3SiH与等摩尔量的烷基卤化物混合,不需添加溶剂,在第二步里面,等摩尔量的(TMS)3SiH与烷基卤化物混合,添加甘醇二甲醚或者是碳氢化合物溶剂。还原反应的形成是通过UV光分解或者是过氧化苯甲酰热分解而产生的。加入2,6-二叔丁基-4-甲酚这个烷基卤化物清除剂,可以有效的抑制这些反应。因此,这些反应被认为是自由基链式反应,如下表:此外,(TMS)3Si自由基的卤素原子的分离绝对速率常数是用激光闪光光解和与Bu3Sn自由基做比较而得的。结果显示来源于烷基溴中的(TMS)3Si自由基卤素原子分离的绝对速率常数基本上与Bu3Sn自由基一样。而在烷基氯中,(TMS)3Si自由基卤素原子分离的绝对速率常数大于Bu3Sn自由基。因此,在烷基氯的还原反应中(TMS)3SiH比Bu3SnH更有效。实例:使用(TMS)3SiH和NaBH4作为催化剂的自由基链式反应。在这个反应里面,NaBH4还原甲硅烷基卤化物,生成新的甲基硅烷。这个反应已经得到了人们的广泛关注,作为一种经济有效的方法,它只需要使用一种相对比较贵些的催化剂(TMS)3SiH。